Beam splitters and pattern generators are diffractive optical elements for generation of 1- and 2-dimensional spot arrays (n x m). Beam splitters are suitable for material processing and optical measurement.

- Beugungseffizienz bis zu 90 %

- Homogenität zwischen den Teilstrahlen bis zu 1%

- hohe Zerstörschwelle

- unabhängig von der Polarisation

- für 1064, 532, 355 and 266nm

- Standard- und kundenspezifische UVFS Elemente